M1の中川です.
おひさしぶりです
あと,更新をひじょーにサボってしまってゴメンナサイ…
(本来は,2週間前に更新する予定でした)
3月1日から就活解禁されましたね
2年続けての説明会解禁日の大幅な変更,しかも大幅な後ろ倒しということもあり,周りでは短期集中型と呼ばれているそうです.
このブログの更新が遅くなったのも,きっとこの後ろ倒しのせいです.
決して,忘れていたりとか,忘れてしまってたりとか,書く前に寝ちゃったりとかが理由じゃないです
......
さて,今月ですが,じぶんは就活だけでなく,研究でもいろんなことをやって大忙し,という感じでした.
というのも,以前のブログ(http://takaolab.blogspot.com/2015/09/blog-post.html)のときに作ったエミッタとはまた別のエミッタを作るため,今回も京大の土屋先生にご教授して頂きながら製作を行ったからです.
というわけで,今回はエミッタの作業風景をお送りしたいと思います
シリコンウエハーの表面にCr蒸着をするため,セットしている図
シリコンウエハーを割るために傷をつけているところ
(シリコンは単結晶なので,少し傷がつくとそこから簡単に劈開します)
きれいに割れた!!
さらに割って,4分割に成功!
これからレジストを塗布するところ
フォトマスクをセットしたあとに,レジストを塗ったウエハーを露光機にセットして...
紫外線で露光!!
そのあと,露光したウエハーを現像液に浸すと
現像できた!!
後日アップします 泣)
改めまして,土屋先生や京大ナノハブの方など今回もご協力していただきありがとうございました
それではまた
改めまして,土屋先生や京大ナノハブの方など今回もご協力していただきありがとうございました
それではまた